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编号 设备名称 规格 设备照片
131 快速成型仪 FDM3000
  技术指标
  　主要技术指标：
　最大成品尺寸：254×254×406mm;精确度：±0.127mm;原料：ABS、ABSi、investment Casting Wax、Elastomer;分层阔度及厚度：阔度0.254 to 2.54mm 厚度0.05 to 0.762mm
　功能/应用范围：
　适合产品设计、开发、改良，特别适合制造通心及微细特征样品、模具。

编号 设备名称 规格 设备照片
132 加工中心 VMC700
  技术指标
  　主要技术指标：
　工作台台面尺寸（宽*长）：483*1016mm；工作台 纵向（X），横向（Y），垂向（Z）行程：711mm，457mm，559mm 主轴转速：在10000rpm内实现无级调速；刀库容量：20把，定位精度及重复定位精度：正负0.0002”；正负0.00015”；切削进给速度；1-10000mm/min，快速移动速度（工作台）：XY：25m/min .Z；20m/min 。
　主要附件：
　Troyke 9”转台。
　功能/应用范围：
　该机床主要具有铣削功能，有较大容量的刀库，机械手自动换刀，主轴能无级变速等功能，采用日本FANVC系统，可手动或自动操作。配备有第四轴（C 轴）它们比实现X.Y.Z三轴同时定位/直线插补，同时二轴园弧插补。穿进LCD显示屏，系统具有较大的存储容量并可与电脑直接连接通信进行数据传输，程序的编辑管理，可进行模拟加工，该机床可使用各种园柱，角度，端面铣刀完成直线铣削，组成各种往返循环，柜式循环，按坐标位置进行孔加工或镗孔加工，也可以铣削曲线轮廓的 零件。

编号 设备名称 规格 设备照片
133 双向拉伸试验机 Z010
  技术指标
  　主要技术指标：
　 X、Y轴双向同步试验，最大荷栽10KN。
　主要附件：
　 四座空气工具夹。
　功能/应用范围：
　 在室温状况下测定金属、非金属、复合材料等多种材料的各向异性。

编号 设备名称 规格 设备照片
134 万能材料实验机 Z020
  技术指标
  　主要技术指标：
　 最大载荷20KN，高温250度，低温-80度。
　主要附件：
　 空气夹具一套、三点弯曲夹具。
　功能/应用范围：
　 在高低温状态下多种材料拉压试验。

编号 设备名称 规格 设备照片
135 高频疲劳试验机 HFP100
  技术指标
  　主要技术指标：
　 工作频率50-250HZ，最大静、动荷载100KN、最大动态荷载100KN。
　主要附件：
　 各种组合夹具。
　功能/应用范围：
　 拉伸、压缩或拉伸交变等疲劳强度试验。

编号 设备名称 规格 设备照片
136 真空注型机 CT-II
  技术指标
  　主要技术指标：
　腔体尺寸：1000×1000×900
　主要附件：
　恒温烤箱、低压罐、环保喷漆房等。
　功能/应用范围：
　真空注型机是快速模具制造及真空浇注的主要关键设备。可用类ABS、类橡胶、类有机玻璃等多种材料对零件或其原型件进行快速复制、低成本小批量制造，用于产品设计评价、装配检验、市场调研展示、性能测试等，也可以作为功能零件直接用于产品。

编号 设备名称 规格 设备照片
137 FPD快速成型机 Dimension
  技术指标
  　主要技术指标：
　FDM快速成型工艺以ABS等工程塑料为成型材料，具有很好的强度和尺寸稳定性。成型体积203×203×305 mm，通过拼接可制作更大尺寸的零件，制造精度±0.2mm/100mm。
　功能/应用范围：
　快速成型采用材料分层累加的制造哲理，不需任何的刀具、夹具或模具，通过专门的制造工艺，可直接从产品的三维CAD模型快速制造出任意复杂形状产品的物理原型甚至功能零件，用于产品设计评价、装配检验、市场调研展示、性能测试等。

编号 设备名称 规格 设备照片
138 FDM快速成型机 FDM2000
  技术指标
  　主要技术指标：
　FDM快速成型工艺以ABS、PP等工程塑料为成型材料，具有很好的强度和尺寸稳定性。成型体积254X254X254 mm，通过拼接可制作更大尺寸的零件，制造精度±0.2mm/100mm。
　功能/应用范围：
　快速成型采用材料分层累加的制造哲理，不需任何的刀具、夹具或模具，通过专门的制造工艺，可直接从产品的三维CAD模型快速制造出任意复杂形状产品的物理原型甚至功能零件，用于产品设计评价、装配检验、市场调研展示、性能测试等。

编号 设备名称 规格 设备照片
139 金相显微镜 MEF4M
  技术指标
  　主要技术指标：
　明场、暗场、DIC放大倍数：40×～1000×
　主要附件：
　图像分析软件
　功能/应用范围：
　可图象采集、定量分析拍照系统：4”×5”，135胶卷金属材料

编号 设备名称 规格 设备照片
140 超高真空磁控溅射仪 MPS-3000-HC5
  技术指标
  　主要技术指标：
　该设备具有两个真空室，成膜室极限真空度可达7×10-9 torr，准备室真空度7×10-7 torr。可以放置6个靶，靶材直径：2英寸；基片直径：3英寸，膜厚均匀性可达到±3%（膜厚100 nm）。基片加热温度：300℃；薄膜沉积时基片可外加横向磁场100 Oe。该设备具有DC及RF电源；具有基片反溅清洗功能。
　功能/应用范围：
　该设备具有广泛的适应性，可制备多种膜厚5~200纳米的薄膜。可沉积非磁性金属超晶格多层膜；巨磁阻GMR、磁性隧道结等磁性超薄多层膜；氧化物纳米介电薄膜（BaSrTiO3、Ta2O5）；其他氧化物、氮化物纳米功能薄膜。
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